sonozap超聲波霧化器噴嘴的工作原理

Sonaer® 超聲波噴嘴采用輕質(zhì)流通設計，用于在噴嘴后部引入液體。使用由鈦、不銹鋼和含氟聚合物制成的噴嘴材料，可以將許多不同的溶液制成霧狀。Sonaer 超聲波霧化器易于清潔、維護、可靠，并且沒有運動部件磨損。在不使用氣壓的情況下，不同粘度的液體被泵入噴嘴的中心，并被霧化。然后，液滴用于涂層，燃燒，保濕，制造納米管或其他需要由液體制成的液滴的應用。Sonaer 的超聲波霧化器設計具有防閃光功能，可防止液體因超聲波駐波振動而反轉(zhuǎn)回探頭并從前端爆出，從而形成不規(guī)則液滴。更小、更均勻的液滴尺寸是這種液體霧化的好處。

探頭的中心是壓電陶瓷，可將電信號轉(zhuǎn)換為機械振動。這種振動被形成探頭前端的臺階放大，并反射回陶瓷，與出射波混合，產(chǎn)生駐波。這些駐波引起泵送動作，將液體吸入探頭中心。

采用Sonaer霧化器探頭設計，液體將連續(xù)噴射，不會從這些駐波流回探頭，產(chǎn)生突然噴出的液體，稱為“閃光"。這些霧化器的噴霧將是平滑和可控的，幾乎沒有過度噴涂。噴霧厚度為納米 - 微米，所有用戶均可調(diào)節(jié)。厚度由輸送流速或噴射、噴嘴的功率水平、液體特性和基材暴露于液體的時間決定。對于重型涂層，使用低頻探頭，對于超薄涂層，通常使用高頻噴嘴。

超聲波霧化器噴嘴技術

請求更多信息

精密錐形霧化器噴嘴	窄霧化器噴嘴	寬噴霧霧化器噴嘴	帶擴展件的寬噴霧霧化器噴嘴	高溫霧化器噴嘴	超長霧化器噴嘴	徑向噴霧霧化器噴嘴	帶噴霧成型器的高溫噴嘴	含氟聚合物耐化學腐蝕噴嘴	海波溶液輸送

精密霧化器噴嘴
	Sonaer 的精密噴霧霧化器噴嘴將微米和亞微米液滴聚焦到來自各種粘度溶液的小部件上，而過度噴涂非常少。 噴嘴有兩種樣式，扁平和寬噴頭。噴嘴是使用我們的針點噴霧整形器聚焦液滴和超低溶液輸送的理想選擇。 從這些噴嘴獲得受控涂層，使其易于適應許多需要均勻薄膜的應用。噴嘴重量輕，具有吸引力 使用機器人涂層系統(tǒng)。噴嘴采用輕質(zhì)黑色鋁（特殊訂單）或不銹鋼外殼，帶不銹鋼內(nèi)進料管。微型進料管可用于輸送 微升容積，提供不銹鋼和 PTFE 含氟聚合物。噴嘴可以配置噴霧成型器，用于針尖噴霧和寬噴霧，為用戶提供更多控制 在涂層應用中。對于噴霧整形器，請單擊鏈接，對于微型進料管，請單擊鏈接。
頻率	型	流速（毫升/分鐘）	二維DWG	二維DWG	質(zhì)量 （g）
48千赫	PF48K	< 2	PF48K	PF48K。直通式處理	175 （不銹鋼）
48千赫	PF48KT	< 2	PF48KT	PF48KT.直通式處理	175 （不銹鋼）
60千赫	PF60K	< 2	PF60K	PF60K。直通式處理	150 （不銹鋼）
60千赫	PF60KT	< 2	PF60KT	PF60KT.直通式處理	150 （不銹鋼）
130千赫	PF130K	< 2	PF130K	PF130K。直通式處理	180 （不銹鋼）
130千赫	PF130KT	< 2	PF130KT	PF130KT.直通式處理	180 （不銹鋼）
窄霧化器噴嘴
	Sonaer 窄霧化器噴嘴將微米和亞微米液滴聚焦到來自各種粘度溶液的小部件上，而過度噴涂非常少。 從這些噴嘴獲得受控涂層，使其易于適應許多需要均勻薄膜的應用。噴嘴重量輕，具有吸引力 使用機器人涂層系統(tǒng)。噴嘴采用輕質(zhì)鋁制或不銹鋼外殼，帶有不銹鋼內(nèi)進料管。微型進料管可用于輸送 微升容積，提供不銹鋼和 PTFE 含氟聚合物。噴嘴可以配置噴霧成型器，用于針尖噴霧和寬噴霧，為用戶提供更多控制 在涂層應用中。對于噴霧整形器，請單擊鏈接，對于微型進料管，請單擊鏈接。
頻率	型	流速（毫升/分鐘）	二維DWG	二維DWG	質(zhì)量 （g）
40千赫	NS40K	0 - 40	NS40	NS40.直通式處理	165 （不銹鋼）
60千赫	NS60K	0 - 20	NS60	NS60.直通式處理	150 （不銹鋼）
130千赫	NS130K	0 - 20	NS130	NS130.直通式處理	147 （不銹鋼）
寬噴霧霧化器噴嘴
	Sonaer 制造了一系列寬噴霧霧化器噴嘴，用于將液滴分散到更廣闊的區(qū)域 比窄噴嘴所能提供的，它通過前端的角度部分做到這一點。當液體沿著前端向上移動時，液滴是 以一定角度粉碎并推離噴嘴。雖然噴嘴可以在低流量下運行，但液體可能會變成 從前端不穩(wěn)定，在這些情況下，應使用窄噴嘴。這些噴嘴適合噴涂孔 或需要全面覆蓋的區(qū)域。為了增加這些噴嘴覆蓋的面積，可以使用我們的鴿尾噴霧附件。對于鴿尾噴霧塑形器，請單擊鏈接。
頻率	型	流速（毫升/分鐘）	二維DWG	二維DWG	質(zhì)量 （g）
20千赫	WS20K	0 - 100	WS20	WS20.直通式處理	264 （不銹鋼）
40千赫	WS40K	0 - 50	WS40	WS40.直通式處理	161 （不銹鋼）
60千赫	WS60K	0 - 40	WS60	WS60.直通式處理	150 （不銹鋼）
130千赫	WS130K	0 - 20	WS130	WS130.直通式處理	147 （不銹鋼）
帶擴展件的寬噴霧霧化器噴嘴
	Sonaer 制造了一系列霧化器噴嘴，末端附有延伸部分。這些噴嘴有 40kHz 和 60kHz 頻率，并且 適合在孔內(nèi)沉積液滴。對于編程的噴涂量，這些噴嘴向前和沿著沉孔和螺紋的內(nèi)部噴射。吸頭是可拆卸的，當溶液侵蝕吸頭時可以更換。
頻率	型	流速（毫升/分鐘）	二維DWG	二維DWG	質(zhì)量 （g）
40千赫	WS40KE	0 - 30	WS40E	WS40E.直通式處理	176 （不銹鋼）
60千赫	WS60KE	0 - 30	WS60E	WS60E.直通式處理	150 （不銹鋼）
高溫霧化器噴嘴
	Sonaer 擁有一系列霧化器噴嘴，可在高溫下工作，通常為 1000 華氏度.噴嘴具有 30kHz 的寬噴霧頻率和 40kHz 的窄噴霧頻率。盡管噴嘴設計用于在更高的溫度下運行，但它們也可以在環(huán)境條件下使用。沿著噴嘴軸是去耦螺母的安裝點，該螺母適用于容器、管道、管子和其他外殼，包括我們的高溫噴霧成型器。我們還設計了一個 40kHz 噴嘴，具有更長的擴展時間，適用于需要更深入地穿透噴霧液滴的應用。所有 HT 噴嘴都帶有冷卻端口點擊鏈接。手動
頻率	型	流速（毫升/分鐘）	二維DWG	二維DWG	質(zhì)量 （g）
30千赫	HTWS30K	0 - 100	HTWS30	HTWS30.直通式處理	276 （不銹鋼）
40千赫	HTNS40K	0 - 50	HTNS40	HTNS40.直通式處理	261 （不銹鋼）
40千赫	HTNS40KE	0 - 50	HTNS40E	HTNS40E.直通式處理	292 （不銹鋼）
徑向噴霧霧化器噴嘴
	使用徑向霧化器，噴嘴噴嘴從噴嘴前端的側(cè)面噴出。噴嘴在探頭前端內(nèi)有一個小內(nèi)管，該內(nèi)管通向側(cè)面的小直徑孔。從小孔中排出的液體被噴向外部。該噴嘴適用于必須沿管內(nèi)壁沉積且不能落到底部的噴霧。
頻率	型	流速（毫升/分鐘）	二維DWG	二維DWG	質(zhì)量 （g）
40千赫	CF40K	0 - 10	CF40	CF40.直通式處理	235 （不銹鋼）
帶噴霧成型器的高溫霧化器噴嘴
	Sonaer 的高溫 40kHz 霧化器噴嘴，帶噴霧整形器。噴嘴采用鈦合金和 316 不銹鋼結(jié)構(gòu)，噴涂溫度高達 600C 度。噴嘴配有針點噴霧整形附件或我們的寬渦旋噴霧整形附件。針點噴霧成型器可以噴涂直徑低至 250 微米，我們的寬渦旋噴霧成型器可以噴涂 100 度角的液滴。在提供的鏈接中查看我們的噴霧成型器規(guī)格表 噴霧成型器 霧化器噴嘴標配冷卻口、供氣管路和壓縮接頭。如果需要，噴嘴可以安裝微量進料管，以實現(xiàn)低流量。
頻率	型	流速（毫升/分鐘）	二維DWG	二維DWG	質(zhì)量 （g）
40千赫	PPSAHTNS40K	0 - 50	PPSAHTNS40	HTNS40PPSA。直通式處理	365 （不銹鋼）
40千赫	WVSAHTNS40K	0 - 50	WVSAHTNS40	HTNS40WVSA.直通式處理	375 （不銹鋼）
用于腐蝕性環(huán)境的含氟聚合物霧化器噴嘴
	Sonaer 用于腐蝕性環(huán)境的含氟聚合物（PEEK 和 PTFE）Sono 合金霧化器噴嘴 （Inconel 725） 使用冶金學的最新進展，用于具有腐蝕性解決方案的應用。氫氟酸，過氧化氫，鹽酸，硝酸和其他腐蝕性化學物質(zhì)可以通過該霧化器噴灑，而無需任何涂層來保護噴嘴。噴嘴標配冷卻端口，并配有含氟聚合物噴霧整形器，用于聚焦和擴散液滴。
頻率	型含氟聚合物	流速（毫升/分鐘）	二維DWG	二維DWG	質(zhì)量 （g）
60千赫	氟60K	0 - 5	氟60K	氟60。直通式處理	115
60千赫	三氟60K	0 - 5			145
60千赫	WVFLUORO60K	0 - 5		WVFLUORO60.直通式處理	155
皮下注射針輸送溶液
	Sonaer 用于霧化器噴嘴的皮下注射附件允許溶液分散在噴嘴前端，并以小氣流將液滴聚焦通過中心孔口?？捎糜诳刂埔后w沉積，用于涂覆醫(yī)療設備和小型物體。附件適合 NS 系列 40、60 和 130kHz 噴嘴。
頻率	型	乙酰型	流速（皮升/分鐘 - 毫升/分鐘）	.DWG	質(zhì)量 （g）
適用于 40，60 和 130kHz	次級	下縮醛	0 - 10毫升/分鐘	海普薩	34 （丙基